β酸化ガリウム

タムラ製作所からのカーブアウトベンチャーであり、国立研究開発法人情報通信研究機構(NICT)の技術移転ベンチャーである株式会社ノベルクリスタルテクノロジーは、新世代パワーデバイス半導体材料の候補の一つである、β酸化ガリウム(β-Ga2O3)の研究開発を進めています。酸化ガリウムパワーデバイスが実用化されれば、中耐圧から高耐圧領域のパワーデバイス市場における省エネルギー化に大きな貢献が期待されます。


ショットキーバリアダイオードプロセス済 高品質β酸化ガリウム100mmエピタキシャルウエハ


β酸化ガリウム(β-Ga2O3)の特長

パワーデバイス用の新しい半導体材料であるβ-Ga2O3は、SiCやGaNよりもバンドギャップエネルギーが大きいため、低消費電力と高耐圧を併せ持つパワーデバイスの実現が期待されています。さらに、融液法によりバルク単結晶を育成できることから、SiCやGaNに比べて、低価格で高品質な基板を市場に提供することが可能です。


■理論オン抵抗と耐圧の関係


β-Ga2O3の価格低減の理由

SiC, GaNβ-Ga2O3
 成長速度 遅い
速い
 加工難易度  難しい易しい
 成長法 
気相成長法模式図
 
融液成長法模式図



アプリケーション

1) パワーエレクトロニクス応用

電気自動車

鉄道車両

再生可能エネルギー

スマートグリッド


2) 耐過酷環境応用

原子炉(放射線)

宇宙(放射線、電磁波)


3) その他応用

高感度イメージセンサ

シンチレータ(医療・セキュリティ応用)

紫外線センサ



ノベルクリスタルテクノロジー報道発表資料
(ノベルクリスタルテクノロジーのホームページにジャンプします)




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問い合わせ先

株式会社ノベルクリスタルテクノロジー
ホームページ https://www.novelcrystal.co.jp/
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